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Direkt plattiertes Kupfer (DPC) ist eine neueste Entwicklung auf dem Gebiet der Leiterplatten mit Keramiksubstrat. Bei diesem Verfahren wird mittels Magnetron-Sputtering-Technologie eine Metallschicht (Ti/Cu-Target) auf der Oberfläche des Keramiksubstrats abgeschieden, was zu unterschiedlichen Kupferdicken führt von 10 µm bis 130 µm und dann Fotolithografie zur Bildung von Schaltkreismustern. Galvanisieren wird verwendet, um die Lücken zu füllen und die Metallschaltkreisschicht zu verdicken, und die Lötbarkeit und Oxidationsbeständigkeit des Substrats werden durch Oberflächenbehandlung verbessert. Schließlich wird der Trockenfilm entfernt und die Keimschicht geätzt, um das Substrat fertigzustellen.

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DBC-Keramiksubstrat , kurz für Direct Bonded Copper Ceramic Substrate, ist ein fortschrittliches Material, das aus einem Keramiksubstrat (typischerweise Al2O3 oder AlN) und Kupfer besteht, die durch einen untereutektischen Prozess fest miteinander verbunden sind. Diese einzigartige Materialkombination führt zu einem Substrat mit außergewöhnlicher Wärmeleitfähigkeit, geringer Wärmeausdehnung, hoher Festigkeit und ausgezeichneter Benetzbarkeit für Lötanwendungen.

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