Titanfärbeanlage (Anodisieren von Titan, Titanlegierungen und Niob

Ätz- und Entwicklungsanlagen zur Herstellung von Leiterplatten und Formätzteilen: Sprühätz- und Sprühentwicklungsverfahren und Schaumätzverfahren.

Kompakte Galvanikanlage für die chemische und galvanische Abscheidung von Metallen in Vertikal-Technik.

Das Einzelwannensystem TG mit einem Beckenvolumen von 5 l /10 l / 20 l und 50 l ermöglicht das individuelle Zusammenstellen von Behandlungsbecken. Die Tischgalvanisierwannen können als Galvanisier- oder Spülwannen eingesetzt werden. Ergänzende Optionen, wie eine aufsteckbare Warenbewegung, Gleichrichter, Bodenheizkörper mit Temperaturregler und Trommeleinrichtungen ermöglichen eine zuverlässige Oberflächenbehandlung für unterschiedliche Anwendungsbereiche.

Galvanikanlagen für die chemische und galvanische Abscheidung auf Oberflächen.