Sputtertarget

PVD-Beschichtungsmaterial

Beschreibung

Wir liefern verschiedene Arten von hochreinen Sputtertargets, darunter Metall-, Legierungs-, Oxid-, Nitrid-, Carbid-, Silizid-, Borid- und andere Targets; flache Targets, rotierende Targets, Targets mit Rückplatten, wir bieten auch maßgeschneiderte Dienstleistungen an. Reine Metalle: Al, Mg, Si, Mn, Ti, Fe, Ni, Zn, Sc, Cr, Zr, Nb, Mo, In, Hf... Legierungen: AlCr, AlCrB, AlCu, AlNd, AlSi, AlTi, CrSiAl, CuCrZr, CuNi, CuTi, CuZr... Oxide: Al2O3, AlON, AZO, AZTO, In2O3, ITO, Nb2O5, HfO2... Nitrid: AlN, BN, CrN, FeN, InN, HfN, NbN, Si3N4, TaN, TiN, VN, ZrN... Karbide: Al4C3, B4C, Cr3C2, HfC, Mo2C, NbC, SiC, TaC, WC, VC, TiC, ZrC... Silizid: MoSi2, HfSi2, TaSi2, ZrSi2, WSi2, TiSi2, CoSi2, CrSi2, VSi2... Boride: CeB6, CrB2, HfB2, LaB6, MgB2, MoB, SiB6, SmB6, TiB2, ZrB2... Verbindungen: BaTiO3, BiFeO3, BiVO4, FTO, IGZO, KNbO3... Unsere Sputtertargets werden häufig in Flachbildschirmen, Halbleitern, Speichern und Solarzellen eingesetzt.