Plasma-Oberflächen-Behandlungsanlage | Femto

Niederdruck-Plasmaanlage, Plasma-Oberflächen-Behandlungsanlage, Plasma Cleaner
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Beschreibung

Plasmaanlagen von Diener electronic haben sich längst in den verschiedensten Industriebereichen durchgesetzt. Mit der Niederdruck Plasmaanlage Femto setzten Sie auf die moderne und zukunftssichere kalte Plasmatechnologie im Vakuum. Das Kammervolumen von 2 bis zu 3 Liter dieses Plasmasystems bietet genügend Raum um Labor und Kleinserienfertigungen zu bedienen. Die Plasmabehandlung im Niederdruck-Plasma ist eine bewährte Technik zur kontrollierten Feinstreinigung, Verbesserung der Adhäsion (Aktivierung und Ätzung) und Beschichtung dünner Schichten auf Substratoberflächen. Plasma wird durch den Einsatz hochfrequenter Spannung in der Vakuumkammer erzeugt. Dabei wird das dort eingeleitete Prozessgas ionisiert. Anwendungsgebiete: VOC-freie Reinigung von organischen Rückständen Aktivierung vor dem Lackieren, Kleben, Vergießen, … Ätzen von PTFE, Fotolack, Oxidschichten, … Super-hydrophobe und -hydrophile Beschichtungen

  • Oberflächenbehandlung - Maschinen und Anlagen
  • Oberflächenbehandlung
  • Niederdruck-Plasmaanlage
  • Plasmareiniger

Produktmerkmale

Abmessungen (Tischgerät)
310 - 560 mm x 211 - 860 mm x 420 - 600 mm (BxHxT)
Abmessungen (Standgerät)
600 mm x 1700 mm x 800 mm (BxHxT)
Vakuumkammer Material
Edelstahl, Aluminium, Quarzglas (UHP), Borosilikatglas (HP)
Vakuumkammer Abmessungen
Ø 95/100 mm, T 280/278 mm, 103-110 mm x 103-120 mm x 285-300 mm(BxHxT)
Vakuumkammer Volumen
Ca. 2 - 3 Liter
Vakuumkammer Verschluss
Deckel, Tür mit Scharnier
Gaszufuhr
Nadelventile oder Mass Flow Controller (MFCs)
Generator
40 kHz; 100 kHz; 13,56 MHz; 2,45 GHz
Druckmessung
Pirani, Kapazitätsmanometer
Elektroden
nach Kundenwunsch
Steuerung
Halbautomatik, Drehschalter, Basic PC (Win. CE), Full PC (Win. 10 IoT)
Spannungsversorgung
230 V / 400 V / 50 - 60 Hz
Vakuumpumpe
Saugleistung min. 3 m³/h

Domain icon Hersteller/ Fabrikant

72224 Ebhausen - Deutschland

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